TU Darmstadt / ULB / TUprints

Items where Division is "18 Department of Electrical Engineering and Information Technology > Institute for Semiconductor Technology and Nano-Electronics" and Year is [pin missing: value2]

Up a level
Export as [feed] Atom [feed] RSS 1.0 [feed] RSS 2.0
Group by: Creators | Date | Item Type | Language | No Grouping
Jump to: E | K | N | R | W | Z
Number of items at this level (without sub-levels): 9.

E

Endres, Ralf (2011)
Gate-Last-Prozessintegration und elektrische Bewertung von High-k-Dielektrika und Metall-Elektroden in MOS-Bauelementen.
Technische Universität Darmstadt
Ph.D. Thesis, Primary publication

K

Keyn, Martin (2018)
Untersuchung einer Herstellungstechnologie für Feldeffekt-Transistoren auf Basis von Kohlenstoffnanoröhren.
Technische Universität Darmstadt
Ph.D. Thesis, Primary publication

Krauss, Tillmann Adrian (2019)
Planar Electrostatically Doped Reconfigurable Schottky Barrier FDSOI Field-Effect Transistor Structures.
Technische Universität Darmstadt
Ph.D. Thesis, Primary publication

N

Noll, Dennis (2019)
Nanokristalline Graphen-Feldeffekttransistoren für Gassensor-Anwendungen.
Technische Universität Darmstadt
Ph.D. Thesis, Primary publication

R

Rispal, Lorraine (2010)
Large Scale Fabrication of Field-Effect Devices based on In Situ Grown Carbon Nanotubes.
Technische Universität Darmstadt
Ph.D. Thesis, Primary publication

W

Weber, Jürgen (2008)
Eine vereinheitlichte Modellierungsmethodik für den Entwurf und den virtuellen Test gemischt analog/digitaler Komponenten.
Technische Universität Darmstadt
Ph.D. Thesis, Primary publication

Wessely, Frank (2011)
CMOS ohne Dotierstoffe: Neuartige siliziumbasierte Nanodraht-Feldeffekt-Bauelemente.
Technische Universität Darmstadt
Ph.D. Thesis, Primary publication

Wessely, Pia Juliane (2013)
Graphen-Transistoren: Silizium CMOS kompatible Herstellung für Anwendungen in der Nanoelektronik.
Technische Universität Darmstadt
Ph.D. Thesis, Primary publication

Z

Zaunert, Florian (2009)
Simulation und vergleichende elektrische Bewertung von planaren und 3D-MOS-Strukturen mit high-k Gate-Dielektrika.
Technische Universität Darmstadt
Ph.D. Thesis, Primary publication

This list was generated on Tue Jul 23 02:22:02 2024 CEST.