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Endres, Ralf
:
Gate-Last-Prozessintegration und elektrische Bewertung von High-k-Dielektrika und Metall-Elektroden in MOS-Bauelementen.
Technische Universität, Darmstadt
[Ph.D. Thesis], (2011)
Rispal, Lorraine
:
Large Scale Fabrication of Field-Effect Devices based on In Situ Grown Carbon Nanotubes.
Technische Universität, Darmstadt
[Ph.D. Thesis], (2010)
Weber, Jürgen
:
Eine vereinheitlichte Modellierungsmethodik für den Entwurf und den virtuellen Test gemischt analog/digitaler Komponenten.
Technische Universität, Darmstadt
[Ph.D. Thesis], (2008)
Wessely, Frank
:
CMOS ohne Dotierstoffe: Neuartige siliziumbasierte Nanodraht-Feldeffekt-Bauelemente.
Darmstädter Dissertationen, Darmstadt
[Ph.D. Thesis], (2011)
Wessely, Pia Juliane
:
Graphen-Transistoren: Silizium CMOS kompatible Herstellung für Anwendungen in der Nanoelektronik.
Darmstädter Dissertationen, Darmstadt
[Ph.D. Thesis], (2013)
Zaunert, Florian
:
Simulation und vergleichende elektrische Bewertung von planaren und 3D-MOS-Strukturen mit high-k Gate-Dielektrika.
Technische Universität, Darmstadt
[Ph.D. Thesis], (2009)