Items where Division is "Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik" and Year is [pin missing: value2]

Endres, Ralf :
Gate-Last-Prozessintegration und elektrische Bewertung von High-k-Dielektrika und Metall-Elektroden in MOS-Bauelementen.
TU Darmstadt
[Ph.D. Thesis], (2011)

Rispal, Lorraine :
Large Scale Fabrication of Field-Effect Devices based on In Situ Grown Carbon Nanotubes.
TU Darmstadt
[Ph.D. Thesis], (2010)

Weber, Jürgen :
Eine vereinheitlichte Modellierungsmethodik für den Entwurf und den virtuellen Test gemischt analog/digitaler Komponenten.
TU Darmstadt
[Ph.D. Thesis], (2008)

Wessely, Frank :
CMOS ohne Dotierstoffe: Neuartige siliziumbasierte Nanodraht-Feldeffekt-Bauelemente.
[Online-Edition]
Darmstädter Dissertationen, Darmstadt, Deutschland
[Ph.D. Thesis], (2011)

Wessely, Pia Juliane :
Graphen-Transistoren: Silizium CMOS kompatible Herstellung für Anwendungen in der Nanoelektronik.
Darmstädter Dissertationen, Darmstadt, Deutschland
[Ph.D. Thesis], (2013)

Zaunert, Florian :
Simulation und vergleichende elektrische Bewertung von planaren und 3D-MOS-Strukturen mit high-k Gate-Dielektrika.
TU Darmstadt
[Ph.D. Thesis], (2009)