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  5. Nitrogen doping of ZnTe and its influence on CdTe∕ZnTe interfaces
 
  • Details
2007
Zweitveröffentlichung
Artikel
Verlagsversion

Nitrogen doping of ZnTe and its influence on CdTe∕ZnTe interfaces

File(s)
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Hauptpublikation
16-1.2459589.pdf
Urheberrechtlich geschützt
Format: Adobe PDF
Size: 928.96 KB
TUDa URI
tuda/7688
URN
urn:nbn:de:tuda-tuprints-198839
DOI
10.26083/tuprints-00019883
Autor:innen
Späth, B.
Fritsche, J.
Klein, Andreas ORCID 0000-0001-7463-1495
Jaegermann, Wolfram
Kurzbeschreibung (Abstract)

The properties of nitrogen doped ZnTe films and in situ formed heterointerfaces to CdTe were investigated using photoelectron spectroscopy and electrical measurements. The p doping of ZnTe with nitrogen is controlled during physical vapor deposition with an additional nitrogen plasma source. The resistivity was determined by four-point measurements and a minimum resistivity of ρ = 0.04 Ω cm was found. The valence band offset of the CdTe/ZnTe interface is EVBO = 0.05 eV.

Sprache
Englisch
Fachbereich/-gebiet
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung
DDC
500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
Institution
Universitäts- und Landesbibliothek Darmstadt
Ort
Darmstadt
Titel der Zeitschrift / Schriftenreihe
Applied Physics Letters
Jahrgang der Zeitschrift
90
Heftnummer der Zeitschrift
6
ISSN
1077-3118
Verlag
AIP Publishing
Publikationsjahr der Erstveröffentlichung
2007
Verlags-DOI
10.1063/1.2459589
PPN
503920851

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