Das Ziel der vorliegenden Arbeit war die Entwicklung von photopolymerisierbaren Systemen, die es ermöglichen, mit Hilfe der Stereolithographie Bauteile mit elastischen Eigenschaften herzustellen. Dazu wurden drei prinzipiell unterschiedliche Systeme eingehend auf ihre Eignung für den beabsichtigten Zweck geprüft: A. Harze auf der Basis von Siloxanmakromonomeren B. Harze auf der Basis von oligomerem Butadien und C. Harze auf der Basis von monomeren Acrylaten und Methacrylaten Mit Harzen der Systeme A und C gelang es, durch Photopolymerisation Polymere mit den gewünschten elastischen Eigenschaften zu erzeugen. Es konnten z. B. aus Mischungen von methacryloxy-propylterminiertem Polydimethylsiloxan / n-Hexylmethacrylat / Ethylenglycol-dimethacrylat / 2-Dimethylaminoethylmethacrylat Polymere mit Reißdehnungen von bis zu 155% erhalten werden. Mit Harzen des Systems B gelang es nicht, die gewünschten elastomeren Proukte zu erhalten. Die Harze auf Siloxanbasis erwiesen sich als zu reaktionsträge für die Verwendung in einer Stereolithographieanlage. Die Acrylatharze dagegen polymerisieren schnell genug für die Stereolithographieanlage. Mit einem Acrylatharz auf der Basis von 2-Hydroxyethylacrylat / n-Decyl-methacrylat / Ethylenglycoldimethacrylat wurden in einer Stereolithographieanlage Versuche durchgeführt, bei denen ein Quadrat geschrieben wurde. Es gelang hierbei, eine zusammenhängende Fläche mit ausreichenden elastischen Eigenschaften zu erzeugen. Die erreichbare Schreibgeschwindigkeit war allerdings um etwa den Faktor 75-100 niedriger als bei üblichen Standardharzen.