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  5. Electronic properties of In₂O₃ surfaces
 
  • Details
2000
Zweitveröffentlichung
Artikel
Verlagsversion

Electronic properties of In₂O₃ surfaces

File(s)
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Hauptpublikation
8-1.1312199.pdf
Urheberrechtlich geschützt
Format: Adobe PDF
Size: 866.68 KB
TUDa URI
tuda/7657
URN
urn:nbn:de:tuda-tuprints-198469
DOI
10.26083/tuprints-00019846
Autor:innen
Klein, Andreas ORCID 0000-0001-7463-1495
Kurzbeschreibung (Abstract)

Surfaces of reactively evaporated In₂O₃ films were investigated in situ by synchrotron-excited photoemission. Work function, valence band maximum, and electronic states in the band gap were determined as a function of oxygen pressure. Surface and bulk electronic properties can only be explained consistently with the assumption of a surface depletion layer.

Sprache
Englisch
Fachbereich/-gebiet
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung
DDC
500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
Institution
Universitäts- und Landesbibliothek Darmstadt
Ort
Darmstadt
Titel der Zeitschrift / Schriftenreihe
Applied Physics Letters
Startseite
2009
Endseite
2011
Jahrgang der Zeitschrift
77
Heftnummer der Zeitschrift
13
ISSN
1077-3118
Verlag
AIP Publishing
Publikationsjahr der Erstveröffentlichung
2000
Verlags-DOI
10.1063/1.1312199
PPN
503672688

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