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  5. Enhancing electrical conductivity of room temperature deposited Sn-doped In₂O₃ thin films by hematite seed layers
 
  • Details
2018
Zweitveröffentlichung
Artikel
Verlagsversion

Enhancing electrical conductivity of room temperature deposited Sn-doped In₂O₃ thin films by hematite seed layers

File(s)
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Hauptpublikation
1.5022683.pdf
Urheberrechtlich geschützt
Format: Adobe PDF
Size: 1.48 MB
TUDa URI
tuda/7661
URN
urn:nbn:de:tuda-tuprints-198538
DOI
10.26083/tuprints-00019853
Autor:innen
Lohaus, Christian
Steinert, Céline
Deyu, Getnet
Brötz, Joachim ORCID 0000-0001-7778-2547
Jaegermann, Wolfram
Klein, Andreas ORCID 0000-0001-7463-1495
Kurzbeschreibung (Abstract)

Hematite Fe₂O₃ seed layers are shown to constitute a pathway to prepare highly conductive transparent tin-doped indium oxide thin films by room temperature magnetron sputtering. Conductivities of up to δ = 3300 S/cm are observed. The improved conductivity is not restricted to the interface but related to an enhanced crystallization of the films, which proceeds in the rhombohedral phase.

Sprache
Englisch
Fachbereich/-gebiet
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Strukturforschung
DDC
500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
Institution
Universitäts- und Landesbibliothek Darmstadt
Ort
Darmstadt
Titel der Zeitschrift / Schriftenreihe
Applied Physics Letters
Jahrgang der Zeitschrift
112
Heftnummer der Zeitschrift
15
ISSN
1077-3118
Verlag
AIP Publishing
Publikationsjahr der Erstveröffentlichung
2018
Verlags-DOI
10.1063/1.5022683
PPN
503915718

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