Entwicklung von Methoden zur Untersuchung organischer Spurenverunreinigungen in hochreinen Chemikalien für die Halbleiterproduktion mit der Gaschromatographie

In dieser Arbeit wurden Methoden zur Analyse organischer Spurenverunreinigungen in hochreinen anorganischen Chemikalien für die Halbleiterproduktion mit Hilfe der Gaschromatographie entwickelt. Untersucht wurden hochreines Wasser, konzentrierte Mineralsäuren, Alkalien und H2O2. Die entwickelten Methoden waren die Direktaufgabe von Wasser in die GC und die Anreicherung mittels Online-SPE-GC für das hochreine Wasser. Für die korrosiven Chemikalien wurde eine Methode zur Mikroextraktion und eine Methode zur Festphasenmikroextraktion (SPME) entwickelt. Für die SPME aus korrosiven Chemikalien wurden Kohlenstoffphasen entwickelt. Eine Methode zur Matrixunabhängigen Kalibrierung wurde auf die SPME übertragen. In den untersuchten Chemikalien wurden n-Alkane, i-Alkane und Phtalate gefunden.

Methods for the analysis of organic trace impurities in high purity anorganic chemicals for semiconductor production with gas chromatography were developed. Analysed chemicals were ultrapure water, concentrated inorganic acids and bases and H2O2. For ultrapure water, methods were direkt injektion of high volumes of water and online SPE-GC. For the corrosive chemicals, methods were liquid-liquid microextraction and solid phase microextraction (SPME). SPME-Phases made of pure carbon werde developed. A method for matix independent calibration was used for SPME. We found n-alkanes, i-alkanes ant phtalate esters as analytes.