Das elektrochemische Dotieren von organischen Halbleiter ist eine etablierte Methode, um die elektrischen Transporteigenschaften sowie die Ladungsträgerinjektion von organischen Halbleiterschichten zu verbessern. Da die Diffusion der Dotierstoffe die Lebensdauer von organischen Bauteilen negativ beeinflussen kann, ist es wichtig die Migration von molekularen Dotanden zu verhindern. Aus diesem Grund wurden in dieser Arbeit die Diffusionseigenschaften molekularer Dotanden am Beispiel eines sequentiellen Dotierprozesses untersucht. Mithilfe von Photoelektronenspektroskopie (XPS) war eine zerstörungsfreie Messung an Bauteil-relevanten Schichtdicken möglich, womit sich außerdem wichtige Prozessparameter wie Dotiereffizienz und Sättigung des Halbleiters bestimmen ließen. Im zweiten Teil der Arbeit wurde ein neuer funktionalisierter N-Dotand charakterisiert, der eine kontrollierte Immobilisierung in einer Vielzahl von organischen Halbleiter-Substanzen erlaubt. Die Strategie zur Verankerung des Dotanden basiert auf der chemischen Reaktion einer Azidgruppe, die kovalente Bindungen erzeugen und damit die Diffusion des Dotanden unterbinden kann. Unter Verwendung von XPS ist eine gleichzeitige Messung der Reaktion der Ankergruppe als auch des Ladungstransfers des Dotanden möglich. Dies erlaubt die Korrelation der chemischen Reaktion mit den Diffusions- bzw. Dotiereigenschaften.